FE-EPMA（電界放出型電子線マイクロアナライザ） - JEOL社 JXA 8500F -

微小領域の元素定性分析

空間分解能：150nm（従来機は370nm）

高精細な元素マッピング分析

最高倍率：20,000倍（従来機は5,000倍）

高感度分析

分析感度：数100ppm（SEM-EDXは0.5％）、
C定量分析精度：0.1％（SEM-EDXは不可）

B～Uまでほぼあらゆる組合わせに適用可能

FE-EPMA（JEOL社 JXA 8500F）

SEM-EDXでは分離できないCrとO, FeとF, MoとS, AgとPdなどの分析も可能

豊富な解析ソフト

相分布、粒度分布、膜厚評価、薄膜の定量など

大型試料にも対応

最大100mm×100mm×75mm高さ

FE-EPMAと従来機（W型-EPMA）で同一位置を同一条件で元素マッピングした例です。FE-EPMAでは、分析時の高電流100nAでも、電子ビームが十分細く絞れるため、1μｍ未満の微細析出物も、その形やサイズが鮮明に識別できます。粒子計測ソフトや相分析ソフトを用いて、ヒストグラムや粒度分布など、お客様のニーズに合わせたデータ解析もご提案できます。

Pbフリー快削鋼のMn, S面分布 ～FE-EPMAと従来EPMAの比較～（加速電圧10kV, 電流値100nA）

フェライト系ステンレスにおいて、結晶粒界に析出したCr炭化物近傍で、Cr欠乏層が生成されている様子を観察することができました。サブミクロン領域における数％の濃度差を捉えています。

鋭敏化したフェライト系ステンレス鋼表面のCr, Fe濃度面分布および粒界線分布
（加速電圧10kV, 電流値100nA）

FE-EPMAと（LaB6型-EPMAで同一条件でSEM観察と線分析した例です。FE-EPMAでは、界面が明瞭で数10nmの微細多積層構造も確認できます。空間分解能をGaPとAlPIn界面で評価すると、従来機の2.5倍に向上しました。

反射電子像（20,000倍）

界面からの距離（nm）

発光ダイオード断面のSEM写真およびGa線分布と界面の分解能
～FE-EPMAと従来EPMAの比較～（加速電圧5kV）

電気・電子

• Pbフリー半田の元素マッピング
• 半田接合部の界面分析（界面拡散～合金化の観察）
• コンデンサーの断面元素マッピング
• ディスプレイ、蛍光塗料の希土類元素等マッピング
• 電極表面処理層の断面元素マッピング

金属・鉄鋼

• 析出物、介在物のマッピングおよび粒子解析
• フェライト系ステンレス鋼の粒界評価
• 各種めっき層の断面マッピング分析
• 脱炭層、浸炭層の評価
• 金属上の機能性薄膜の膜厚評価
• ステンレス、低合金鋼の酸化膜やさび層の元素マッピング

その他

• セラミックス系、合金系焼結材料の元素マッピング（助剤との界面反応評価）
• 磁性材料の粒界相分析
• Pt、Ag-Pd等触媒金属の形態、分布評価

• 電界放出型電子線マイクロアナリシス（ナノ材料解析）